憂關鍵技術外流 專家建議N-1原則統一適用 經濟部：蒐集各界意見 希望有彈性調整空間
【外勞社記者劉達寬2025年4月22日報導】立法院民眾黨團4月22日舉行「半導體產業的發展與挑戰」公聽會，邀請學者專家提出對關鍵技術輸出審查制度的建議，包括界定仍有模糊、「N-1」原則的適用範圍也有限，並建議修法更明確統一適用。經濟部表示近期《產創條例》修法已授權強化避免關鍵核心技術外流，蒐集各界意見後將在6個月內擬定子法。
學者憂面對關稅談判 能否堅持
立委張啟楷點出公聽會三大題綱。首先，目前的技術輸出與對外投資審查制度，對於保護半導體先進製程是否具備足夠效力？其次，「N-1」原則是否應建立統一審查機制，適用所有國家與地區？其三，全球供應鏈重組與美中科技角力，企業海外布局與技術根留張力是否加劇，如何引導促進產業鏈韌性？
銘傳大學財金法律學系教授顏廷棟指出，由《產創條例》授權訂定的「公司國外投資處理辦法」列有可不予核准的事項，包括影響國安、對國家經濟發展有不利影響等；另外對大陸地區投資半導體技術，還訂有「N-1」原則（技術需落後臺灣一個世代以上才），但對其他國家則未明文適用。他也擔心面對美國關稅談判，即使採取「N-1」原則能否堅持。
第二個審查機制則是《公平交易法》，如以技術出資換股，就會牽涉到事業結合申報制度。我國廠商參與、且對我市場有可預見影響，公平會應有管轄權，衡量對整體經濟利益是否大於限制競爭之不利益，可附加條件確保。但在政治壓力下，技術鑑價可能受影響，壓低臺廠對合資公司的控制力，也可藉此逃避公平會審查等。
業界建議採原則框架確保彈性
科技政策研究員洪毓祥博士則從業界角度指出，國發會認定的「國家核心關鍵技術」需要確保即時更新，因應產業技術快速迭代。他也同樣指出「N-1」的模糊性，建議統一適用，確保審查的一致性和可預測性，也避免政治因素干擾。
在執行層面，技術專業度、實質追蹤和稽核都有困難度，更存在無形技術與人才流動，如何落實管制也可作為修法重點。他建議建立折衷性的法律原則框架，搭配個案的差異化。如以精密評估模型，計算技術高低、地緣政治風險，作為審查參考。
建立技術輸出資訊平臺與協商機制
他也建議將相關法規集中，劃出關鍵技術（清單）和場域風險分級制度的兩條座標軸線，並由行政院成立審議委員會，建立技術輸出的資訊平臺、提供協商機制。
針對相關建議，經濟部產發署副署長陳佩利首先說明新進三讀的《產創條例》修法重點之一，就是避免關鍵技術外流。未來企業海外投資，如果屬於特定產業或技術、國家或地區，達到一定金額就需要事前申請核准，這次修法也明訂罰則。經濟部將陸續蒐集各方面意見，參考國安法、兩岸條例等，預計6個月內訂定子法。
針對半導體產業發展，產發署會繼續協助排除投資障礙、協調水電需求。輔導發展本土半導體材料、設備供應鏈，完善支援體系。並鼓勵臺灣IC設計朝向先進製程研發，也會強化和輔導半導體應用。
投審司：台積電案件尚未送審
投審司副司長蘇琪彥則說明，目前尚未收到台積電的申請案，對其技術層次與時程尚無資料，因此並未評論。根據現行產創條例22條規定，公司對外投資只要超過15億台幣都要事先申請，針對這些重大投資案成立跨部會審議平臺，包含國安局、國科會等部會，審議會採用共識決，若有單位不同意就不會通過。
產創條例修正後，針對特定產業技術、國家地區等認定，也希望有一定的空間快速調整措施，未來在制定子法過程中一定會和各界充分溝通。
